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有掩膜光刻機(jī)

簡(jiǎn)要描述：v手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)v高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號(hào)

廠商性質(zhì)

代理商

更新時(shí)間

2024-10-22

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詳細(xì)介紹

v 手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)

v 高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米

v 基片尺寸可滿足4、6、8、12英寸

v 經(jīng)過特殊設(shè)計(jì)，方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦

v 設(shè)備可通過選配升級(jí)套件，實(shí)現(xiàn)紫外納米壓印光刻


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