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無掩膜/激光直寫光刻機

簡要描述:v光源:375nm、385nm、405nm激光器v線寬:0

基礎信息

產(chǎn)品型號

廠商性質

代理商

更新時間

2024-10-22

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詳細介紹

v 光源375 nm、385 nm、405 nm 激光器

v 線寬:0.5μm0.6μm、1.0μm、1.5μm

v 光刻效率:3000mm2/min@5μm

v XY行程:55~205mm

v 樣品尺寸:最小3mm*3mm   8 inch

v 應用領域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光學元件、芯片封裝、光通訊芯片光刻


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